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    四氟化碳是现在微电子工业中用量最大的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混淆体。

    1. 可普遍应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜质料的烛刻。关于硅和二氧化硅系统，接纳CF₄-H₂反应离子刻蚀时，通过调理两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。

    2. 在电子器件外貌洗濯、太阳能电池的生产、激光手艺、气相绝缘、低温制冷、

走漏磨练剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大宗使用。

    3. 由于化学稳固性极强，CF₄还可以用于金属冶炼和塑料行业等。

    4. 四氟化碳的溶氧性很好，因此被科学家用于超深度潜水实验取代通俗压缩空气。现在已在老鼠身上获得乐成，在275米到366米的深度内，小白鼠仍可清静脱险。