宣布时间：2019-10-11 | 游览：2090
内容摘要：现在 ，含氟蚀刻气体是一把无形的“刀” ，被普遍应用于半导体或LCD前段制程 ，甚至可以在微米厚的薄膜上刻出纳米级的沟槽。
现在 ，含氟蚀刻气体是一把无形的“刀” ，被普遍应用于半导体或LCD前段制程 ，甚至可以在微米厚的薄膜上刻出纳米级的沟槽。你能脑补谁人画面吗？
那么 ，含氟蚀刻气体都有哪些？它们又是怎样举行事情的呢？
蚀刻所用气体称蚀刻气体, 通常多为氟化物气体, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。
含氟蚀刻气体是电子气体的一个主要分支 ，是超大规模集成电路、平面显示器件、太阳能电池 ，光纤等电子工业生产不可或缺的原质料 ，普遍应用于薄膜、蚀刻、掺杂、气相沉积、扩散等半导体工艺。在国家生长刷新委《工业结构调解指导目录(2011年本)(修正)》中 ，电子气体被列入国家重点勉励生长的产品和工业目录。其主要种类见表1。
表1
蚀刻就是把基片上无光刻胶遮蔽的加工外貌如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉, 而使有光刻胶遮蔽的区域生涯下来, 这样便在基片外貌获得所需要的成像图形。蚀刻的基本要求是, 图形边沿整齐, 线条清晰, 图形变换差小, 且对光刻胶膜及其遮蔽�；さ耐饷参匏鹕撕妥晔�。
蚀刻方法有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻由于蚀刻偏向性强、工艺控制准确、利便、无脱胶征象、无基片损伤和沾污, 以是其应用规模日益普遍。
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